چین اعلام کرده که پژوهشگران این کشور موفق به ساخت یک منبع نور فرابنفش شدید (EUV) در اندازه رومیزی شده‌اند؛ ابزاری که می‌تواند امکان ساخت تراشه‌های ۱۴ نانومتری را بدون نیاز به دستگاه‌های عظیم‌الجثه شرکت هلندی ASML فراهم کند.
به گزارش interesting engineering، اگرچه این فناوری جایگزین ماشین‌های پیشرفته ASML نمی‌شود، اما یک ابزار کاربردی برای تولید محدود، تحقیق و توسعه و بازرسی تراشه‌ها به شمار می‌آید.
گزارش‌ها نشان می‌دهد این فناوری جدید علاوه‌بر نمونه‌سازی تراشه‌های کوانتومی و تشخیص عیب فوتومسک‌ها برای بررسی ساختار ترانزیستور‌ها نیز قابل استفاده است. به بیان دیگر، این ابزار نسخه کوچک ASML نیست، اما می‌تواند در حوزه‌های پژوهشی و ساخت محدود تراشه نقش مهمی ایفا کند و برای چین قدمی رو‌به‌جلو در مسیر استقلال از تجهیزات غربی است.
در ماشین‌های EUV شرکت ASML معمولا از پلاسما تولیدشده با لیزر برای انفجار قطرات قلع استفاده می‌شود و این فرایند نیازمند آینه‌های کلکتور بسیار بزرگ است؛ آینه‌هایی که چین هنوز امکان ساخت داخلی آنها را ندارد. اما دستگاه جدید چینی با به‌کارگیری لیزر فمتوثانیه و شلیک آن به گاز آرگون، نور EUV را از طریق تولید هارمونیک‌های بالا (HHG) ایجاد می‌کند.
این روش به آینه‌های عظیم یا قطرات قلع نیاز ندارد و از همین رو، سیستمی ساده‌تر با قابلیت تولید طول‌موج‌های قابل تنظیم بین ۱ تا ۲۰۰ نانومتر ارائه می‌دهد.
با این حال توان دستگاه جدید قابل مقایسه با تجهیزات ASML نیست. در حالی که ماشین‌های صنعتی EUV برای تولید انبوه حدود ۲۰۰ وات توان نیاز دارند، دستگاه جدید تنها حدود یک میکرووات انرژی در هر پالس مصرف می‌کند؛ یعنی حدود ۲۰۰ میلیون برابر کمتر؛ بنابراین ساخت تراشه‌های پیشرفته در مقیاس صنعتی با آن ممکن نیست، اما توان آن برای کاربرد‌های تحقیقاتی و نمونه‌سازی تراشه‌های کوچک مناسب ارزیابی می‌شود.
ماشین‌های EUV پیشرفته ASML ابعادی در حد چند ده متر دارند و می‌توانند تراشه‌های ۳ تا ۷ نانومتری را در حجم بالا تولید کنند. اما نسخه جدید چینی ابعادی کوچک و هزینه‌ای بسیار پایین دارد و حتی روی یک میز کار آزمایشگاهی جا می‌شود.
این ابزار اگرچه برای تولید انبوه مناسب نیست، اما به‌دلیل هزینه کم، اندازه کوچک و توانایی تولید نور EUV با طول‌موج استاندارد ۱۳.۵ نانومتر، از نگاه کارشناسان می‌تواند در بازرسی تراشه‌ها، تنظیم ماسک‌های لیتوگرافی و افزایش کیفیت تولید تراشه‌های ۱۴ و ۲۸ نانومتری نقش مهمی داشته باشد.
این پیشرفت همچنین با هدف کاهش وابستگی چین به تجهیزات غربی در حوزه تحقیق و توسعه تراشه‌ها و حرکت در چهارچوب محدودیت‌های بین‌المللی انجام شده است.
انتهای پیام/